KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中，离子源广东快乐十分 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度.

KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数：

型号	RFICP 140 / RFICP 140L
供电	RF 射频感应耦合
- 阴极灯丝	-
- 射频功率	1 KW
电子束	广东快乐十分OptiBeam™
- 栅极	专用
-栅极直径	14 cm
中和器	LFN 2000
电源控制	广东快乐十分RFICP 1510-2-10-LFNA
配置	-
- 阴极中和器	LFN2000 or MHC1000 or RFN
- 安装	移动或快速法兰
- 高度	9.8'
- 直径	9.8'
- 离子束	聚焦 平行 散设
-加工材料	金属 电介质 半导体
-工艺气体	惰性 活性 混合
-安装距离	8-36”
广东快乐十分 - 自动控制	控制4种气体

KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE